制氫機生產(chǎn)廠家簡述氫氣用途，氫氣廣泛應(yīng)用于電子工業(yè)、冶金工業(yè)、食品加工、浮法玻璃、精細化工和天工業(yè)等很多領(lǐng)域。高純氫氣甚至純氫氣主要應(yīng)用在電子工業(yè)。
 

　　在一些電子材料的生長與襯底的制備、氧化工藝、外延工藝中以及化學氣相淀積技術(shù)中，均要采用高純氫氣作為反應(yīng)氣、還原氣或保護氣。半導體集成電路生產(chǎn)對氫氣純度要求*，比如氧雜質(zhì)的允許濃度為10-12等。微量雜質(zhì)的“摻入”，將會改變半導體的表面特性，甚至使產(chǎn)品成品率降低或造成廢品。在制造非晶體硅太陽能電池中，也需要用到純度很高的氫氣。非晶硅薄膜半導體是國際上近十年來研制成功的新材料，在太陽能轉(zhuǎn)換和信息技術(shù)等方面已展示出了誘人的應(yīng)用前景。光導纖維的應(yīng)用和開發(fā)已經(jīng)規(guī)模使用，石英玻璃纖維是光導纖維的主要類型，在光纖預(yù)制棒制造過程中，需要采用氫氧焰加熱，經(jīng)數(shù)十次沉積，對氫氣純度和潔凈度都有一定要求。
 

　　而在應(yīng)用到純氣體的行業(yè)中，大多數(shù)都在用著國外的氫氣提純設(shè)備，這些設(shè)備價格高，供給國內(nèi)的企業(yè)造成很大的生產(chǎn)成本，基于這樣的一個市場，我們決定研究純氫氣提純設(shè)備，使得氫氣的的純度能達到7個9甚至8個9以上。
 

　　該提純設(shè)備是由主體設(shè)備及柜體組成：主要由兩只預(yù)處理容器和兩只吸附凈化器組成及一些輔助的容器，管道，閥門，儀表等。整個系統(tǒng)的溫度和壓力由PLC控制完成。工作時，原料氣先后經(jīng)過預(yù)處理單元和凈化單元，合格的氣體。
 

　　該提純裝置目前設(shè)計的產(chǎn)品氣的純度是≥99.99999，能夠符合需要純氣體的設(shè)備的技術(shù)要求。